无码操逼,三级大香蕉大香蕉电影,99黄色电影,夜夜夜夜夜久久久久久久

    
    

        產品中心您的位置:網站首頁 > 產品中心 > 半導體烘烤設備 > 潔凈烤箱 > 硅片充氮烘箱,無氧充氮烤箱 工業烘箱
        硅片充氮烘箱,無氧充氮烤箱 工業烘箱

        硅片充氮烘箱,無氧充氮烤箱 工業烘箱

        簡要描述:

        硅片充氮烘箱,無氧充氮烤箱是一種提供高溫凈化環境的特殊潔凈烘干設備.潔凈烘箱適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、IC、醫藥、實驗室等生產及科研部門。

        硅片充氮烘箱,無氧充氮烤箱概述

        硅片充氮烘箱,無氧充氮烤箱是一種提供高溫凈化環境的特殊潔凈烘干設備。箱內空氣封閉自循環。烘箱工作室為光亮型全不銹鋼結構。工作室內溫度采用智能式數顯溫度控制儀進行自動控制P.I.D調節,數顯時間控制,并設有斷路及超溫報警,操作方便,使用安全。 充氮烤箱可滿足電子電器、醫藥、實驗室等生產及科研部門中凈化干燥。特殊要求溫度可達350℃-400℃并且可加裝氮氣進出口。

        用途

        潔凈烘箱適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、IC、醫藥、實驗室等生產及科研部門。

        技術參數

        Ø  溫控輸出:SSR輸出,品牌繼電器,固態繼電器。                   

        Ø  測溫裝置:PT100 鉑 電阻溫度傳感裝置,測溫精確。

        Ø  內室材料:采用無磁性不銹鋼;外箱采用 SS41# 中碳鋼板經磷酸皮膜鹽處理后兩層防光面涂裝烤漆,可防止微塵(PARTICLE) 。

        Ø  保溫材料:玻璃纖維。

        Ø  保護裝置:超溫保護器,無熔絲開關。

        Ø  流 量 計:氮氣轉子流量計

         

         

        無氧烘箱

        一. 概述

        無氧化烘箱,在工作時,工作室內充滿了惰性氣體CO2,N2,防止材料在烘烤時被氧化。無氧化烘箱在工業中的用途:IC包裝,LCD,晶體管,傳感器,二極管,石英晶體振蕩器,混合集成電路板……

        二.技術參數

        1、主要技術指標

        Ø  含氧量:< 100ppm;

        Ø  溫度范圍: RT(室溫)+10~ +200℃;

        Ø  溫度均勻度:±1℃;

        Ø  溫度波動度:±0.5℃(空載)

        Ø  溫控精度:0.1℃;

        Ø  烘箱擱板為活動形式。

         

        COPYRIGHT @ 2016 網站地圖    滬ICP備16022591號-1   

        上海雋思實驗儀器有限公司主要經營優質的硅片充氮烘箱,無氧充氮烤箱 工業烘箱等,歡迎來電咨詢硅片充氮烘箱,無氧充氮烤箱 工業烘箱詳細資料等信息
        地址:上海奉賢臨海工業園區818號