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        HMDS烘箱真空泵，HMDS系統(tǒng)用油泵
        
   
        
   
        HMDS烘箱真空泵，HMDS系統(tǒng)用油泵
              
	 
        
	 
        簡要描述：
        
	    
        HMDS烘箱真空泵，HMDS系統(tǒng)用油泵在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要。增黏劑HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。
        
	 
        
   
           
  
        

         

        
		
	   
		   
        
			
        	
			 
        HMDS烘箱真空泵，HMDS系統(tǒng)用油泵簡介
        HMDS烘箱真空泵，HMDS系統(tǒng)用油泵廣泛應(yīng)用于制冷、電子、化工、醫(yī)藥、食品及科研所實驗室的設(shè)備和自動生產(chǎn)線上。先進的設(shè)計理念加工更加合理的加工工藝，使各項性能指標(biāo)都達到了JB/T53017-92一等品標(biāo)準(zhǔn)，其性價比在同行業(yè)中。
        技術(shù)參數(shù)
        型號
        DM2
        DM4
        DM8
        DM15
        抽氣速率（L/S）
        2
        4
        8
        15
        極限分壓強（Pa）
        氣鎮(zhèn)關(guān)
        ≤4×10－2
        ≤4×10－2
        ≤4×10－2
        ≤4×10－2
        氣鎮(zhèn)開
        ≤8×10－2
        ≤8×10－2
        ≤8×10－2
        ≤8×10－2
        極限總壓強（Pa）
        氣鎮(zhèn)關(guān)
        ≤5×10－1
        ≤5×10－1
        ≤5×10－1
        ≤5×10－1
        氣鎮(zhèn)開
        ≤1
        ≤1
        ≤1
        ≤1
        噪聲LP/LW
        52/63
        54/65
           58/71
        59/72
        水蒸氣抽除率（L/h）
        360
        520
        600
        1200
        進氣口直徑
        DN25ISOKF
        DN25ISOKF
        DN40ISOKF
        DN40ISOKF
        排氣口直徑
        DN25ISOKF
        DN25ISOKF
        DN40ISOKF
        DN40ISOKF
        zui高油面工作溫度
        80
        85
        125
        130
        用油量（L）
        1.1
        1.5
        3.4
        4.5
        轉(zhuǎn)速r/min
        1400
        1430
        1400
        1420
        電動機功率（kw）
        0.37
        0.55
        1.1
        1.5
        重量（kg）
        27
        36
        60
        70
        外形尺寸（mm）
        510×174×274
        550×174×274
        635×236×383
        695×236×383
         
        智能型HMDS烘箱，全自動HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的重要性：
          光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗，同時濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。 在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。

        智能型HMDS烘箱，全自動HMDS預(yù)處理系統(tǒng)主要技術(shù)性能：

        電源電壓：AC 220V±10%/50Hz±2%

        輸入功率：2500W

        控溫范圍：RT+10℃-250℃

        溫度分辨率：0.1℃

        溫度波動度：±0.5℃

        達到真空度：133Pa（1torr）

        工作室尺寸（mm）：450*450*450、350*350*350（可自定義）

        智能型HMDS烘箱，全自動HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的*性：

        預(yù)處理性能更好，更加均勻；效率高,一次可以處理多達4盒的晶片；更加節(jié)省藥液；低液報警、防藥液泄漏等具有很強的安全保護功能；，有可自動吸取添加HMDS功能，智能型的程式設(shè)定，一鍵完成作業(yè)
        
			 
        

		     
        
		  
		
        
		   
        
           
        	
                
	  
        

         

	 
        
         
        
        
        
      
        
    
        
  
        

        

        

        
  
        
    
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